半導體清洗用超純水設備
半導體清洗超純水設備水質標準：
半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了嚴格的要求。
半導體清洗超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
半導體清洗超純水設備應用場合：
☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質顯像管、螢光粉生產
☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
☆實驗室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產品、其他高科技精微產品
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半導體清洗超純水設備水質標準：
半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了嚴格的要求。
半導體清洗超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
半導體清洗超純水設備應用場合：
☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質顯像管、螢光粉生產
☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
☆實驗室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產品、其他高科技精微產品
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